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肌ストレスをブロック。高保湿UVケア(SPF30・PA++)【HMプロテクトUVベース/化粧下地】


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乾燥による粉吹き、痒み、ごわつき肌
ノンケミカル処方(紫外線吸収剤不使用)
HMプロテクトUVベース(日焼け止め化粧下地)30g

外的環境ストレス、乾燥、UVケアの多機能メイク下地。
ノンケミカル処方(紫外線吸収剤不使用)で
365日味方する肌へ

ヒアルミルフィーユ


商品番号  HM015
価格
4,180円 (税込)
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※紫外線吸収剤不使用、アルコールフリー、無香料、無着色、鉱物油不使用

お手入れ方法

朝のお手入れの最後に、適量を手のひらの取り、ムラなくのばしてください。
使用量が少ないと、充分な紫外線防止効果が得られません。

全成分

シクロペンタシロキサン、水、酸化亜鉛、BG、酸化チタン、ポリグリセリル−3ポリジメチルシロキシエチルジメチコン、ステアリン酸、水酸化Al、ヒアルロン酸Na、加水分解ヒアルロン酸、アセチルヒアルロン酸Na、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコン、ジメチコン、ジステアルジモニウムヘクトライト、PEG−10ジメチコン、ジメチコンクロスポリマー、 (ジメチコン/(PEG−10/15))クロスポリマー、カプリル酸グリセリル、モンモリロナイト、ツボクサエキス、イタドリ根エキス、オウゴン根エキス、カンゾウ根エキス、チャ葉エキス、カミツレ花エキス、ローズマリー葉エキス、シリカ、ヒドロキシアパタイト、塩化Na、エチルヘキシルグリセリン

<メーカー>株式会社スタジオファン
<生産/区分>日本製/化粧品
<広告文責>株式会社スタジオファン 03-5728-5304



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