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超音波洗浄機

超音波と魚探のus-dolphin:超音波=魚探・洗浄・切断・溶着・霧化等、超音波の世界をお届けします

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    <オプション> 
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ボルト締めランジュバン型振動子


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ボルト締めランジュバン型振動子


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ボルト締めランジュバン型振動子


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配送休業日
配送のみ

◆超音波洗浄とは
工業製品の品質を高める超音波洗浄

超音波洗浄は、水や溶剤を超音波により振動させ、被洗浄物(ワーク)に付着した油や微細な塵・汚れなどを洗浄する技術です。身近なところでは、メガネ店の店頭に置いてあるメガネを洗うための超音波洗浄機があります。産業用としては、機械部品の金型、工具等の切削油、切削粉・切粉(キリコ)、研磨粉(バフ 粉)や離型剤の除去、メッキの前の脱脂洗浄、鉛フリーのプリント基板のフラックスの除去や半導体部品の洗浄など、幅広い用途で利用されており、工業製品の歩留まり向上、品質向上に大きく貢献しています。

また、超音波洗浄機は、「洗浄」のみならず、脱泡・脱気、分散、撹拌や破砕などの用途に使用されています。

◆超音波による洗浄の原理
超音波洗浄は、超音波の”物理的作用”と洗浄液の”化学的作用”を組み合わせることによって、洗浄効果を得ています。

●物理的作用
キャビテーション、振動加速度、直進流などが、汚れを剥離、分散、乳化します。

●化学的作用
洗浄液による化学的作用と、超音波による化学反応促進作用が汚れを溶解・分解します。

◆超音波洗浄の仕組み
【キャビテーションによる洗浄】

キャビテーション イラスト液体中には無数の気体分子が存在し、20kHzから100kHzほどの協力は超音波が液中に照射されたときに、正・負の圧力がその気体分子に交互にかかりま す。正の圧力で圧縮された気体分子は、次の瞬間には負の圧力により激しく膨張します。この繰り返しによって圧縮時に気体分子は非常に高い圧力を持ち、その 限界で弾けて消滅します。この非常に大きな衝撃的圧力の発生を「キャビテーション現象」といい、泡が弾ける時の衝撃波がワークに作用して、異物を剥離させ る作用を「キャビテーション効果」といいます。

主に低・中周波での洗浄作用です。
 
実際に超音波洗浄機を使用する上では、キャビテーションは液深、液種によっても発生の仕方が変化します。このため良好な超音波洗浄を行うには、これらの管理が不可欠です。

【粒子加速度による洗浄】

粒子加速度 イラスト加速度による超音波洗浄は、水分子が加速されワークにぶつかり、その衝撃によりワークからパーティクルを剥離させます。周波数が高ければ高いほど効果があ り、付着力の弱い非常に微細なパーティクルの剥離に有効です。加速度は周波数の倍数の2乗に比例して大きくなり、波長も小さくなって、より微細なパーティクルに対して有効です。

主に中・高周波での洗浄作用です。

【直進流による洗浄】

超音波エネルギーが0.5W/cm2以上になると振動面から遠方に向かって直進流が発生します。これが塵埃の分散に寄与していると考えられています。

主に中・高周波での洗浄作用です。
 


低周波・中周波卓上型低周波セパレート型中周波セパレート型
高周波ソニックモニター洗浄カゴ
洗浄フタビーカーその他オプション品

プラスチック、木、紙などの加工に超音波カッターZO-41
超音波カッターUSW334
超音波カッター刃固定ビス締付用トルクドライバーセットZH25S
超音波カッターZO-40B写真
卓上型超音波洗浄機W-170ST時計バンドや宝石洗いに便利
赤い超音波カッターZO-334Plas
ごんた屋仕様の超音波カッターR31-GONTA黒
超音波研磨機がホビー用超音波カッターで出来るヤスリ板が誕生

選び方

超音波洗浄機の機種選定の際は、以下の項目をご参考にしてください。
1) 洗浄目的: 脱脂、研磨粉(バフ粉)、切粉(キリコ)、パーティクルの除去など
2) ワーク(被洗浄物)の種類: 材質、寸法(カゴを使用する場合はカゴの寸法)など
3) 形状の選定: セパレート型(発振器と振動子が分かれてあるタイプ)、卓上型、石英振動体型、流水式

※超音波洗浄機の導入時、どの工程までをシステムとして組み込むのかの決定も重要です。
 『洗浄→すすぎ→乾燥』最低でもこの3工程は必要です。
 

周波数の選択
周波数 洗浄対象の汚れ 用途例 ワークへのダメージ 特徴
28kHz 油系・
目に見える大きな汚れ
金属部品の脱脂洗浄
樹脂の脱脂洗浄
研磨粉(バフ粉)、切粉(キリコ)の除去
 大 
















 小
洗浄エネルギーが強いため、脱脂などの頑固な汚れの洗浄に使用される。洗浄液の効力を助ける役目を果たす。
40kHz 10μm以上・埃 液晶ガラスの受入時の洗浄
精密金属部品の洗浄
28kHzよりワークへのダメージが少ないため、精密部品の洗浄に使用されることが多い。
100kHz 5μm〜10μm ハードディスク・CSP基板・精密金属部品・光ディスク・HDのヘッドの洗浄 40kHzでワークへダメージが出る場合に使用されることが多い。洗浄エネルギーも比較的強く、ワークへのダメージも少ないため、最近注目されている周波数。
200kHz 1μm〜10μm 化合物ウェーハ
ハードディスク
ウェーハなどの受入に使用される。ワークへのダメージが少なく、微細な汚れ除去が可能。
400kHz 0.2μm〜5μm シリコンウェーハ
ガラスウェーハ・ガラス基板
パーティクルの除去サイズが幅広く、様々は精密洗浄が期待されている。
1MHz 0.2μm〜1μm ガラス基板の最終洗浄、シリコンウェーハ(回路付)、ガラスマスク 眼に見えないようなパーティクルの除去に使用される。ワークへのダメージも少ない。ウェーハ洗浄では、注目を集めている。
3MHz 0.2μm以下 シリコンウェーハ(回路付)、ガラスマスク 1MHzより微細なパーティクル除去の目的で使用される。粒子加速度としては1MHzより強いため、新たな洗浄として注目されている。

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写真商品名価格
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